• SiC Siliziumkarbid

    Hinzufügen

    Maße10 mm × 10 mm × 0,3 mm

    ZüchtungsverfahrenMOCVD

    Orientierung(0001)

    Stapelfolge6H-ABCACB
    4H-ABCA

    Oberfläche1-seitig poliert (Si Substrat)

    StrukturHexagonal

    Gitterkonstantea = 0,308 nm
    c = 1,508 nm

    Schmelztemperatur2700 °C

    Dichte3,217 g/cm3

    Wärmeausdehnungskoeffizient10,3 × 10-6K-1